英特尔芯片处理技术 助您步步领先
 
芯片创新
概述架构芯片平台软件高能效
  • 了解我们的芯片处理技术如何为超高性能和能效表现奠定基础。

  • 英特尔能够批量提供比任何同类企业能效表现都高的 CPU 晶体管,您可以借此开发灵活、高性能、低功耗的解决方案。

    • 突破创新与优势

    • 抢占先机
      借助领先一年的 65 纳米芯片处理技术抢占先机。

      超低功率 65 纳米技术 
      英特尔实现了 65 纳米芯片的巨大飞跃 
      摩尔定律 
      芯片创新:从 90 纳米至 65 纳米的飞跃 (PDF 1.4MB)

      续写辉煌
      凭借我们在芯片开发方面值得信赖的速度优势屹立竞争潮头。英特尔® 45 纳米技术已纳入 2007 年日程。

      45 纳米技术 
      架构和芯片发展蓝图白皮书 (PDF 109KB)
      保持领先的能效曲线 (PDF 269KB)


      前景展望

      认识英特尔世界级的芯片研发能力如何推动摩尔定律向前发展,并在新材料、结构、制程、晶体管、自动化以及制造领域不断取得突破性成就。

      芯片研究 
      K/金属栅极 
      3-D 和 III-V 晶体管 

      • 混合硅激光器

          混合硅激光器

          来自英特尔和加州大学圣芭芭拉分校的研究人员联合开发了一台全新的电动混合硅激光器,为万亿级光纤互连铺平了道路。

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        英特尔三门晶体管闪亮登场

          英特尔三门晶体管闪亮登场

          英特尔研究人员开发出了改进的 CMOS 三门(3-D)晶体管,首次将高 k 栅极和应变硅成功集成起来,开创了电流和晶体管效率纪录的历史新高。

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          (PDF 1.5MB)›

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