インテル コーポレーション（本社：米国カリフォルニア州サンタクララ）は、同社の研究者が、世界最速のシリコン・トランジスタの開発に成功し、2010 年に向けてムーアの法則を推進する上で根本的な障壁がないことを立証しました。インテルは、わずか 20 ナノメートル（注：1 ナノメートルは、1 メートルの 10 億分の 1）の大きさのトランジスタをもとに、2007 年をめどに 10 億個のトランジスタを集積し、動作周波数 20GHz、電圧 1 ボルト以下で動作するマイクロプロセッサを開発する予定です。

インテル コーポレーション 技術・製造本部 コンポーネンツ・リサーチ研究所ディレクタのジェラルド・マーシック博士は、「今回の成果は、インテルがシリコンを利用して、ナノテクノロジ研究の領域にまで踏み出していることを示しています。また、ムーアの法則が、現行技術から、少なくとも 3 世代先まで有効であることを立証しています」と述べています。

多くの科学者は、ナノテクノロジが将来、シリコンを置き換えると考えていました。しかし、インテルの研究者は、実際には両者は互いに補完するものだとしています。

インテル コーポレーション インテル・フェロー 兼 技術・製造本部 インテル・ロジック技術開発 トランジスタ研究担当ディレクタのロバート・チャウは、「現時点で、トランジスタの微細化を進める上で、根本的な限界は見当たりません。シリコンの開発速度は加速しており、減速することはありません」と述べています。

インテル研究所が開発したトランジスタは、ゲート長が 20 ナノメートルで、同じくインテルが昨年開発し、これまでの業界最速だったトランジスタと比較して、大きさが 30 ％ 縮小され、25 ％ 高速に動作します。一般に、トランジスタは、小さいほど高速で動作します。高速トランジスタは、コンピュータや各種のインテリジェント機器の頭脳として利用される高速マイクロプロセッサの重要な構成要素です。今回開発されたトランジスタは、インテルの 0.045 ミクロン（45 ナノメートル）・プロセスで実用化される予定です。このプロセス技術を採用した製品は、2007 年頃の量産が計画されています。

トランジスタは、マイクロチップ内の電子の流れを制御するスイッチの役割を果たします。今回開発されたトランジスタは、1 秒間に 1 兆回以上のスイッチングを行い、まばたき 1 回の間に 10 億回の演算処理を行うことができます。

インテルの研究者は、トランジスタのあらゆる面を極限まで削ることで、今回の超小型トランジスタを開発しました。このトランジスタに形成されているゲート酸化膜は、わずか原子 3 個分の厚みです。これを縦に 10 万個以上積み重ねて、やっと紙 1 枚分の厚みに匹敵します。

今回の成果で特に重要な点は、開発されたトランジスタが、今日の半導体製造で利用されている最先端のプロセス技術よりも数世代、先の技術であることもさることながら、現在のコンピュータ・チップと同一の物理構造および材料で形成されていることです。インテルでは、これらのトランジスタが量産段階を向かえるまでに、新しい種類のゲート酸化膜材料を採用する計画です。

インテルの研究開発を推進するインテル研究所は、全世界で 6,000 人以上の研究者および科学者を擁しています。同研究所は“非集中型”に構成されており、社内の研究開発に加えて、大学や政府研究機関、業界団体など、数々の外部研究団体とのプログラムを推進しています。この構造は、伝統的な一極集中型の研究所とは異なり、インテルはより広範な研究プロジェクトに取り組むことができます。さらに、同ラボは、インテルの各事業部門とも密接に連携しており、インテルの顧客や消費者のニーズに対応する技術の開発を行っています。

インテルのシリコン技術研究に関する情報は、http://www.intel.com/research/silicon で入手できます。インテル・ラボの研究活動に関する情報は、http://www.intel.com/labs で入手できます。

また、このトランジスタにつきましては＜添付資料＞もご覧ください。

世界最大の半導体メーカであるインテル コーポレーションは、パソコン・ネットワーク / コミュニケーション製品の世界的なメーカでもあります。インテルの情報は、http://www.intel.com で入手できます。

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